《楠楠自語－莫灝楠》華為新手機衍生出來的半導體迷思
《楠楠自語》最近說華為使用中芯國際晶片製造新手機，中國半導體技術突破的說法鬧得沸
沸揚揚。下文就簡單表達筆者的看法。
關於光刻機，ＤＵＶ光刻機光源為準分子激光，而ＥＵＶ光刻機是激光激發等離子來發射極
紫外光子。通過不同方式，二者發出的光源也不同。其中，ＤＵＶ光刻機的波長能達到１９３納
米，而ＥＵＶ光源的波長則為１３﹒５納米。二者之間的差距十分明顯，波長愈短，所能實現的
分辨率愈高。所
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